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Transiente Oberflächenpotenziale an Grenzflächen und Molekülen

Transiente Oberflächenpotenziale an Grenzflächen und Molekülen
界面和分子的瞬态表面电势
批准号:
134227466
负责人:
Professor Dr. Lukas M. Eng, since 3/2011
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2009
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2008-12-31 至 2014-12-31

项目摘要

项目成果

相关文献

中文摘要
翻译
Lokale Ladungen(单极子,偶极子和多极子)和f<s:1> r viele Grenzflächeneigenschaften maßgebend verantwortlich (Optik, elektronischer Transport等)。e . Aufklärung der Ladungen(超真空,高温)erfolgen(超真空,高温)erfolgen(超真空,高温)erfolgen。[2] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1]大北werden vorhandene Ladungen定量快速和sowohl räumlich也有zeitabhängig。德国科学与技术研究所(Einsatz definiter rstersondenspitzen)和德国科学研究所(ezeitlichen Kopplung)在纳米科学与技术研究所(nanosekdenberich)的研究进展schlagkräftiges,德国科学研究所(neues Werkzeug zur Aufklärung)在德国科学与技术研究所(deutschen Prozessen auder Sub-1-Nanometer-Längenskala)。
英文摘要
Lokale Ladungen (Monopole, Dipole und Multipole) sind für viele Grenzflächeneigenschaften maßgebend verantwortlich (Optik, elektronischer Transport, etc.). Eine Aufklärung der Ladungen auf atomarer und molekularer Skala soll im Rahmen dieses Projektes mit Hilfe der Kelvinsonden- Rasterkraftmikroskopie unter sehr definierten Bedingungen (Ultrahochvakuum, Tieftemperatur) erfolgen. Die bekannten, makroskopisch vermessenen Eigenschaften der Grenzflächen sollen dabei mit den lokal detektierbaren Ladungen assoziiert und mikroskopisch erklärbar werden. Dabei werden vorhandene Ladungen quantitativ erfasst und sowohl räumlich als auch zeitabhängig dargestellt. Durch den Einsatz definierter Rastersondenspitzen und einer zeitlichen Kopplung im Nanosekundenbereich erreichen wir ein sehr schlagkräftiges, neues Werkzeug zur Aufklärung von sowohl statischen als auch dynamischen Prozessen auf der Sub-1-Nanometer-Längenskala.
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会议论文
In situ self-assembled organic interface layers for the controlled growth of oligothiophene thin films on ferroelectric Pb(Zr(0.2)Ti(0.8))O3.
原位自组装有机界面层用于铁电 Pb(Zr(0 2)Ti(0 8))O3 上低聚噻吩薄膜的受控生长
DOI: 10.1063/1.4833355
发表时间: 2013
期刊: The Journal of chemical physics
影响因子: --
作者: [P. Milde, R. Schoenfelder, A. Koitzsch, K. Haubner, U. Zerweck-Trogisch, E. Jaehne, L.M. Eng]
通讯作者: L.M. Eng