Time resolved measurement of film growth in high power plasmas using variable ion energy distribution functions (C03)

磁性等离子体与控制系统的研究与应用。在dem项目中，主要是植物、植物、植物、植物、植物、植物等。大足华美将死Energieverteilung der来自民主党等离子auftreffenden Ionen军队一张变量Steuerung der Substratvorspanung马ßgeschneidert和deren Einfluss Modellsystem氧化铝untersucht。Die ionenenergyeverteilungen werden mit einem speziellen gegenfeldanalyzer and einem plasmam监测器beobachtet sowie Die Schichten mit原位红外光谱和椭偏仪sowie非原位Röntgenbeugung。

Hochwertige Oxide und Nitride werden mittels Magnetronplasmen und kontrolliertem Ionenbeschuss abgeschieden. In dem Projekt ist es geplant, diese ionen-induzierte Strukturbildung genauer zu untersuchen. Dazu wird die Energieverteilung der aus dem Plasma auftreffenden Ionen durch eine variable Steuerung der Substratvorspanung maßgeschneidert und deren Einfluss am Modellsystem Al2O3 untersucht. Die Ionenenergieverteilungen werden mit einem speziellen Gegenfeldanalysator und einem Plasmamonitor beobachtet sowie die Schichten mit in-situ Infrarotspektroskopie und Ellipsometrie sowie ex-situ Röntgenbeugung.