Time resolved measurement of film growth in high power plasmas using variable ion energy distribution functions (C03)

氧化物和氮化物是磁性等离子体和控制离子的手套。在DEM项目中，所有的工作都在进行中。大足将在Aus DEM等离子体中提供能量，并在底物上实现可变的Steuerung和Deren Efluss am ModelSystem Al_2O_3。离子能谱分析仪和等离子体监测仪是一种现场等离子体监测仪器和椭圆机。

Hochwertige Oxide und Nitride werden mittels Magnetronplasmen und kontrolliertem Ionenbeschuss abgeschieden. In dem Projekt ist es geplant, diese ionen-induzierte Strukturbildung genauer zu untersuchen. Dazu wird die Energieverteilung der aus dem Plasma auftreffenden Ionen durch eine variable Steuerung der Substratvorspanung maßgeschneidert und deren Einfluss am Modellsystem Al2O3 untersucht. Die Ionenenergieverteilungen werden mit einem speziellen Gegenfeldanalysator und einem Plasmamonitor beobachtet sowie die Schichten mit in-situ Infrarotspektroskopie und Ellipsometrie sowie ex-situ Röntgenbeugung.