Time resolved measurement of film growth in high power plasmas using variable ion energy distribution functions (C03)

使用可变离子能量分布函数对高功率等离子体中薄膜生长进行时间分辨测量 (C03)

• 批准号: 177935896
• 金额: --
• 依托单位: Institut für Experimentelle und Angewandte Physik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: CRC/Transregios
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2009-12-31 至 2017-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/177935896?language=en
• 关键词: Time; resolved; measurement; film; growth

Hochwertige Oxide und Nitride werden mittels Magnetronplasmen und kontrolliertem Ionenbeschuss abgeschieden. In dem Projekt ist es geplant, diese ionen-induzierte Strukturbildung genauer zu untersuchen. Dazu wird die Energieverteilung der aus dem Plasma auftreffenden Ionen durch eine variable Steuerung der Substratvorspanung maßgeschneidert und deren Einfluss am Modellsystem Al2O3 untersucht. Die Ionenenergieverteilungen werden mit einem speziellen Gegenfeldanalysator und einem Plasmamonitor beobachtet sowie die Schichten mit in-situ Infrarotspektroskopie und Ellipsometrie sowie ex-situ Röntgenbeugung.

Hochwertige Oxide 和 Nitride werden mittels Magnetronplasmen 和 kontrolliertem Ionenbeschuss abgeschieden。在 dem Projekt ist es geplant 中，diese ionen-induzierte Strukturbildung genauer zu untersuchen。 Dazu 是通过在 Al2O3 模型系统中控制变量来控制等离子能量的。该离子能量转换器具有特殊的Gegenfeldanalysator 和Einem Plasmamonitor beobachtet sowie 与原位红外光谱仪和椭圆仪sowie 异位Röntgenbeugung。