Time resolved measurement of film growth in high power plasmas using variable ion energy distribution functions (C03)

高强度氧化物和氮化物韦尔登可用于磁控管和离子控制器。在这个项目中，这种结构是可以理解的。通过对基体材料的可变控制和对Al_2O_3模型系统的影响，可以实现等离子体对离子体的能量增强。电离能韦尔登由一个特殊的地质分析仪和一个等离子体监测仪通过原位红外光谱仪和椭圆偏振仪进行测量。

Hochwertige Oxide und Nitride werden mittels Magnetronplasmen und kontrolliertem Ionenbeschuss abgeschieden. In dem Projekt ist es geplant, diese ionen-induzierte Strukturbildung genauer zu untersuchen. Dazu wird die Energieverteilung der aus dem Plasma auftreffenden Ionen durch eine variable Steuerung der Substratvorspanung maßgeschneidert und deren Einfluss am Modellsystem Al2O3 untersucht. Die Ionenenergieverteilungen werden mit einem speziellen Gegenfeldanalysator und einem Plasmamonitor beobachtet sowie die Schichten mit in-situ Infrarotspektroskopie und Ellipsometrie sowie ex-situ Röntgenbeugung.