Hochtemperaturstabilität zweiphasiger Chrom-Germanium-Silizium-Legierungen

两相铬-锗-硅合金的高温稳定性

基本信息

项目摘要

Refraktärmetall-Silizide, besonders auf Niob oder Chrombasis, gelten als aussichtsreiche Kandidaten für einen Einsatz jenseits des für Nickelbasislegierungen maximalen Temperaturbereichs [1]. Sie haben einen sehr hohen Schmelzpunkt und hohe erzielbare Festigkeit. Die Verstärkung der duktileren Metallmatrix wird durch Silizide mit der Struktur A15 erzielt. Jedoch ist das Hauptproblem dieser Legierungen die Gefüge- und Oxidationsstabilität bei hohen Temperaturen. Das binäre System Chrom-Germanium bildet die intermetallische Phase Cr3Ge mit der gleichen A15-Struktur und einer peritektischen Temperatur von 1564°C. Ge und Si sind in dieser intermetallischen Phase substituierbar.Durch den teilweisen oder vollständigen Ersatz des Siliziums durch Germanium lassen sich die Gittereigenschaften der A15-Phase, und damit die Wechselwirkung mit der Metallmatrix im Hinblick auf Orientierung und Stabilität, verändern. Ebenso stark wird die Oxidation (>1000°C) durch die Wechselwirkung zwischen den drei Elementen Chrom, Silizium und Germanium beeinflusst. Daher sollen ternäre Cr-Ge-Si-Legierungen mit der intermetallischen Phase Cr3Ge1-xSix in einer Cr- Mischkristallmatrix, im Hinblick auf das Potenzial des Germaniums als Substitution für Silizium in Refraktärmetall-Siliziden bei hohen Temperaturen, untersucht werden. Germanium wurde bisher nach unserer Kenntnis nicht als Legierungselement für Hochtemperaturlegierungen in Betracht gezogen. Nebenbei wird der noch unbekannte chromreiche Bereich des ternären Phasendiagramms Cr-Ge-Si untersucht.
Refraktärmetall-Silizide,Besonder auf Niob Oder Chrombase,Gel ten Als ausicichtsreiche Kandidaten füreinen einatz Jenseits des für Nickelbasislegierungen max alen Temperaturbereichs[1]。这句话的意思是:“我不知道该怎么做了。”这是一种新型的金属胎体材料,用于生产各种金属材料。绝地武士是一名优秀的退伍军人,他的氧化反应稳定了他的生活。Das binäre系统铬-锗双金属间化合物相Cr3Ge MIT和Gleichen A15-StrukTurn und einer周转温度为1564°C。金属间化合物相替代物中的Ge和Si Sind。在Ge-Lassen Sich Des Silizium de Silizium de Vollständigen eratz des Silizium de Silizium de Vollständigen eratz des Silizium de Silizium dch Gassen Lassen sich Dh Gittereenschaften De Gleichen A15相中,并破坏Wechselwirkung MIT中的金属矩阵Hinblauf Orientierung and稳定。氧化法(>1000°C)主要用于铬、硅、锗等元素的氧化。用Daher Sollen Terenäre Cr-Ge-Si-Legierungen MIT在Cr3Ge1-xSix金属间化合物中掺入Cr3Ge1-xSix,并用Hinblick auf das Potenzial des Germanium Als替代Refraktärmetall-Siliziden Hohen Temperaturen中的Silizium,未经高温处理。Ge wurde Bisher nach unserer kenntny nach unserer kenntennis nach unserer negierungselement für Hochtematurcierungen in Betracht gezogen.它是铬-锗-硅三元系相图的一部分。

项目成果

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Cr-Ge-Si Alloys for High-Temperature Structural Applications: Microstructural Evolution
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  • DOI:
    10.1002/maco.201307423
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    A. Soleimani‐Dorcheh;W. Donner;M.C. Galetz
  • 通讯作者:
    M.C. Galetz
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  • DOI:
    10.1007/s11085-015-9544-5
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.2
  • 作者:
    A. Soleimani-Dorcheh;M.C. Galetz
  • 通讯作者:
    M.C. Galetz
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