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UHV-Kombinationsgerät für Photoelektronenspektroskopie und Rastertunnelmikroskopie

UHV-Kombinationsgerät für Photoelektronenspektroskopie und Rastertunnelmikroskopie
用于光电子能谱和扫描隧道显微镜的特高压组合装置
批准号:
248184285
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2013
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2012-12-31 至 --

项目摘要

项目成果

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英文摘要
Rastertunnelmikroskopie (STM) und Photoelektronenspektroskopie (XPS/UPS) sollen in der Arbeitsgruppe Oberflächenchemie (AK Gottfried) an der Philipps-Universität Marburg zu Untersuchungen der geometrischen, chemischen und elektronischen Struktur von Oberflächen und Grenzflächen verwendet werden. Gegenstand der Forschung sind dabei vor allem reaktive Grenzflächen von Metallen, Halbleitern, organischen Schichten und Flüssigkeiten sowie Modellsysteme für katalytisch aktive Oberflächen. Derartige funktionale Grenzflächen sind von großer Bedeutung in der modernen Technologie, z.B. in elektronischen Bauelementen auf Basis von organischen Halbleitern oder bei funktionalen Oberflächen für Anwendungen in der heterogenen Katalyse und der Sensorik. Im Mittelpunkt stehen dabei vor allem Struktur/Aktivitäts-Beziehungen, die Kontrolle der chemischen Dynamik an Grenzflächen, sowie die Entwicklung neuartiger grenzflächenbasierter Materialien und Verfahren zur Funktionalisierung von Grenzflächen. Thematisch besteht damit ein enger Zusammenhang zu dem DFG-Graduiertenkolleg 1782 "Funktionalisierung von Halbleitern" und dem DFG-Sonderforschungsbereich 1083 "Structure and Dynamics of Internal Interfaces" (in Begutachtung); beide Forschungsverbünde würden durch das beantragte Großgerät gestärkt. Für die materialwissenschaftlich orientierte Forschung, die einen wichtigen Schwerpunkt an der Philipps-Universität Marburg darstellt, ist das beantragte Gerät somit von erheblicher Bedeutung.
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会议论文
Metalation of tetraphenylporphyrin with nickel on a TiO2(110)-1 × 2 surface.
四苯基卟啉与镍在 TiO2(110)-1 x 2 表面上的金属化
DOI: 10.1039/c5nr03134f
发表时间: 2016-01-14
期刊: Nanoscale
影响因子: 6.7
作者: [Wang C, Fan Q, Han Y, Martínez JI, Martín-Gago JA, Wang W, Ju H, Gottfried JM, Zhu J]
通讯作者: Zhu J
DOI: 10.1039/c5cp03837e
发表时间: 2015-11
期刊: Physical chemistry chemical physics : PCCP
影响因子: --
作者: [M. Sachs;M. Gellert;Min Chen;Hans-Jörg Drescher;S. Kachel;Han Zhou;Malte Zugermeier;M. Gorgoi;B. Roling;J. M. Gottfried]
通讯作者: M. Sachs;M. Gellert;Min Chen;Hans-Jörg Drescher;S. Kachel;Han Zhou;Malte Zugermeier;M. Gorgoi;B. Roling;J. M. Gottfried
DOI: 10.1021/acs.jpcc.6b11188
发表时间: 2016-11
期刊: Journal of Physical Chemistry C
影响因子: 3.7
作者: [Bettina Wagner;Natalie Dehnhardt;M. Schmid;Benedikt P. Klein;Lukas Ruppenthal;Philipp Müller;Malte Zugermeier;J. M. Gottfried;S. Lippert;M. Halbich;A. Rahimi‐Iman;Johanna Heine]
通讯作者: Bettina Wagner;Natalie Dehnhardt;M. Schmid;Benedikt P. Klein;Lukas Ruppenthal;Philipp Müller;Malte Zugermeier;J. M. Gottfried;S. Lippert;M. Halbich;A. Rahimi‐Iman;Johanna Heine