前駆体溶液のXAFS分析によるミストCVDの成膜メカニズムの解明

点击翻译按钮获取中文摘要

本研究では複数の前駆体溶液を用いてミスト源を分離することで、単独の前駆体溶液では作製困難な機能性硫化物等の薄膜作製を行うと共に、放射光XAFSなどの分光手法を用いて、薄膜・溶液中での金属イオンの電子状態を明らかにすることでミストCVDの成膜メカニズムを明らかにすることを目的としている。ミストCVDは高品質な酸化物薄膜作製手法として知られているが、用いる前駆体物質や溶媒によって成膜そのものの可否が変わるなど、前駆体溶液の選択が重要なファクターになっている。本研究では、前駆体溶液を分離することにより、前駆体物質を切り分け、製膜可否や薄膜の高品質化につながるファクターの分離を行う。また、製膜した薄膜や前駆体溶液の分光分析を行うことによって、前駆体物質の選択がどのように薄膜形成プロセスに影響を与えているのか明らかにする。本年度は新規に導入したミストCVD装置を用いて、複数のミスト源を利用した製膜とその薄膜の基礎的な評価に主眼を置いて研究を行った。しかし、ミストの混合そのものがミストの挙動に影響し、製膜する加熱基板に安定的に到達しないため、均一な薄膜が得られないなどの問題が生じた。このため、前年度に得られた単独ミスト源による製膜から得られた知見との比較も難しくなっている。このため、来年度はミストの混合方法や加熱基板への導入方法を工夫し、単独ミスト源による製膜と同様の均一な薄膜が得られる手法を検討する。