universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten
universelle Laborsputteranlage zur Deposition leitender und nichtleitender Schichten
批准号:
316893580
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2016
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2015-12-31 至 --
中文摘要
与光伏材料和光电材料相关的技术支持和技术支持在此进行。德国技术学院(KIT)和德国技术学院(KIT)之间的技术合作和多样化的技术合作(KIT)是一种新的、更高层次的技术和服务。
英文摘要
Eine konkurrenzfähige und erfolgreiche Forschung erfordert zwingend eine Ausrüstung, die dem gegenwärtigen Stand der Technik entspricht - insbesondere in einem konkurrenzstarken Forschungsgebiet wie der hier relevanten photovoltaischen und optoelektronischen Materialforschung. Mit der beantragten Sputteranlage soll es zukünftig in den drei an der Ausschreibung beteiligten Arbeitsgruppen des Karlsruher Instituts für Technologie (KIT) ermöglicht werden, sowohl leitende (z. B. Kontakte) als auch nichtleitende Schichten (z. B. Dielektrika für Antireflexschichten) in verschiedensten Ausführungen und für diverse Anwendungen (siehe Anhänge) in ausreichender Qualität kostengünstig und selbständig ohne hinderliche externe Abhängigkeiten herzustellen, um einen raschen Fortschritt der entsprechenden Forschungsprojekte zu gewährleisten.
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