Development of low-friction soft polymer materials with regeneration and restoration functions

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本年度はポリシロキサンを骨格としたABA型ブロックコポリマーの合成にあたり、メタクリル基を有するポリジメチルシロキサン(PDMS)をポリエチレングリコール(PEG)末端から伸長させPDMS-PEG-PDMSおよびPEG-PDMSを合成し、その特性を評価した。得られたポリマーをPDMSゴムに添加したところ、PDMS(1.6k)－PEG(5.5k)-PDMS(1.6k)およびPDMS(5.9k)-PEG(5.7k)-PDMS(5.9k)を1wt%添加したPDMSゴム基板ではグリセロール90wt%接触角が70°程度であり、既存のPDMS(1k)-PEG(2.1k)を1wt%添加したＰＤＭＳ基板(40°程度)に比べ接触角変化が小さく、また摩擦係数も比較的高かった。PDMS側鎖の分子量が大きい櫛型と直鎖型の違いによるものと考えられる。一方、PDMS(1k)-PEG(2.1k)では摩耗処理後の評価から潤滑性の回復挙動を確認した。またスライドリング架橋剤を導入したイオンゲルを熱重合により合成した。イオン液体モノマーであるDEMMTFSI、スライドリング架橋剤SM1305Pおよびイオン液体BMI-TFSI中で加熱してゲルを合成したところ、共有結合型架橋剤であるtriethyleneglycol dimethacrylateの場合に比べ添加量が4, 7wt%いずれの場合も強度および伸びが向上し、２倍程度の強靭化を確認した。