Development of high pressure gas-liquid interface discharge plasma induced flow reaction process
Development of high pressure gas-liquid interface discharge plasma induced flow reaction process
高压气液界面放电等离子体诱导流反应工艺开发
批准号：
20H02515
负责人：
Goto Motonobu
金额：
$11.56万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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DOI：
10.1007/s13369-021-05806-1
发表时间：
2021-06
期刊：
Arabian Journal for Science and Engineering
影响因子：
2.9
作者：
[W. Diono;Takumi Ibuki;S. Machmudah;H. Kanda;M. Bito;Yaping Zhao;M. Goto]
通讯作者：
W. Diono;Takumi Ibuki;S. Machmudah;H. Kanda;M. Bito;Yaping Zhao;M. Goto
DOI：
10.1007/s00114-022-01803-y
发表时间：
2022-06
期刊：
The Science of Nature
影响因子：
--
作者：
[M. Sasaki;Yuji Miyagawa;Kouki Nonaka;Ryota Miyanomae;A. Quitain;T. Kida;M. Goto;T. Honma;]
通讯作者：
M. Sasaki;Yuji Miyagawa;Kouki Nonaka;Ryota Miyanomae;A. Quitain;T. Kida;M. Goto;T. Honma;
Separation Technology Using Supercritical CO2: Technology Transfer from University to Industry and Spin-off Company
使用超临界二氧化碳的分离技术：从大学到工业和衍生公司的技术转移
使用超临界二氧化碳的分离技术：从大学到工业和衍生公司的技术转移
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Motonobu Goto, Masahiro Tanaka]
通讯作者：
Masahiro Tanaka
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Wanying Zhu, Wahyudiono, Hideki Kanda, Motonobu Goto]
通讯作者：
Motonobu Goto
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