補助書込SOT法による高速低消費磁化反転技術の開発とデバイス応用

采用辅助写入SOT方法的高速、低消耗磁化反转技术的开发及器件应用

基本信息

  • 批准号:
    20H02607
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.48万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-04-01 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

スピン軌道トルクを用いた磁化反転の高効率化に向けて補助書込SOT法を用いた多方向からのスピン注入による磁化反転の効果やスピンの挙動を明らかにすることが本研究の目的である。本年度は,数値シミュレーションや理論による考察と実験とで分担して研究した。数値シミュレーションにおいては,高速磁化反転に向けて,高効率はSOT注入法の検討や,現実の系に近い数値シミュレーションを目標に研究を行なった。実験においては,補助書込SOT法と従来のSOT法による磁化反転を比較しながら実験を行ない,より高速な磁化反転の実験実証を目指した。超真空成膜装置,微細加工装置,高周波プローバや2端子出力パルス生成器を用いることで,磁化反転時間の検討を可能した。これにより補助書込SOT法が従来のSOT法よりも,同じ消費電力で比較して高速に磁化反転可能であることが明らかになった。磁化反転の数値シミュレーションにおいては,熱の効果(温度に依存した磁気モーメントの方向の揺らぎ)を導入することで,補助書込みSOT法がさらに高速な磁化反転を起こすことが明らかになった。熱揺らぎと反転時間の関係について発表した。また,薄膜だけでなく厚膜においてもSOT法によって高速な磁化反転が起ることが明らかになった。この結果から,SOT法を用いた新たな磁気メモリデバイスの提案を行い,また,厚膜における磁化反転を発表した。厚膜や数百ナノメートルサイズの薄膜においては,磁化反転過程で複数の磁区が生成されることが数値シミュレーションによって示された。この磁区の堺である磁壁の長さの検討を従来よりも高精度な近似を用いて行ない,解析結果を発表した。
The purpose of this study is to improve the efficiency of magnetization inversion by using the multi-directional magnetization inversion method. This year, the number of research and development projects A study on the high efficiency SOT injection method has been carried out in the near future. In addition, the SOT method and the SOT method are used to compare the magnetization inversion and the high speed magnetization inversion. Ultravacuum film forming apparatus, micromachining apparatus, high frequency wave generator, magnetization inversion time, etc. The SOT method can be used to reduce the power consumption. The magnetization inversion value is determined by the temperature dependent magnetization inversion direction. The magnetization inversion value is determined by the SOT method. The relationship between heat and anti-heat time The thin film has a high magnetization and a low magnetization. The result is that the SOT method is used in the new magnetic field, and the magnetization inversion of the thick film is displayed. The thickness of the film is different from that of the thin film, and the magnetization inversion process results in the formation of a plurality of magnetic regions. The length of the magnetic field and the magnetic wall are analyzed with high precision approximation and the analytical results are presented.

项目成果

期刊论文数量(22)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
学術情報システム
学术信息系统
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Influence of an edge magnetization on an internal magnetic domain in one-dimensional ferromagnetic nanowires with the interfacial Dzyaloshinskii-Moriya interaction
边缘磁化强度对一维铁磁纳米线内部磁畴的影响以及界面 Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用
In-plane spin-orbit torque magnetization switching and its detection using the spin rectification effect at subgigahertz frequencies
  • DOI:
    10.1103/physrevb.102.174442
  • 发表时间:
    2020-11
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.7
  • 作者:
    M. Aoki;E. Shigematsu;Masayuki Matsushima;R. Ohshima;S. Honda;T. Shinjo;M. Shiraishi;Y. Ando
  • 通讯作者:
    M. Aoki;E. Shigematsu;Masayuki Matsushima;R. Ohshima;S. Honda;T. Shinjo;M. Shiraishi;Y. Ando
THERMAL DEPENDENCE OF SPIN-ORBIT TORQUE-INDUCED MAGNETIZATION REVERSAL IN PERMALLOY THIN FILM
坡莫合金薄膜中自旋轨道扭矩引起的磁化反转的热依赖性
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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    濱田 浩史;住友 翔;田中 雅章;本多 周太;粟野 博之;壬生 攻;出田真一郎;濱田 浩史,住友 翔,田中 雅章,本多 周太,粟野 博之,壬生 攻;出田真一郎
  • 通讯作者:
    出田真一郎
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  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
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  • 作者:
    濱田 浩史;住友 翔;田中 雅章;本多 周太;粟野 博之;壬生 攻;出田真一郎
  • 通讯作者:
    出田真一郎
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  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
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  • 通讯作者:
    木下治紀 木瀬信和 祢津誠晃 金澤徹 宮本恭幸
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  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    濱田 浩史;住友 翔;田中 雅章;本多 周太;粟野 博之;壬生 攻;出田真一郎;濱田 浩史,住友 翔,田中 雅章,本多 周太,粟野 博之,壬生 攻
  • 通讯作者:
    濱田 浩史,住友 翔,田中 雅章,本多 周太,粟野 博之,壬生 攻
Triple-layer splitting in high-Tc cuprate Bi2Sr2Ca2Cu3O10+δ observed by ARPES
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    濱田 浩史;住友 翔;田中 雅章;本多 周太;粟野 博之;壬生 攻;出田真一郎;濱田 浩史,住友 翔,田中 雅章,本多 周太,粟野 博之,壬生 攻;出田真一郎;住友翔,足立紀子,田中雅章,本多周太,壬生攻,粟野博之;Shinichiro Ideta
  • 通讯作者:
    Shinichiro Ideta

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  • 资助金额:
    $ 11.48万
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  • 资助金额:
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    2019
  • 资助金额:
    $ 11.48万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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