Demonstration of shift current photovoltaic response in high-quality thin films of halide ferroelectrics
Demonstration of shift current photovoltaic response in high-quality thin films of halide ferroelectrics
高质量卤化物铁电体薄膜中移流光伏响应的演示
批准号：
20H02626
负责人：
Nakamura Masao
金额：
$11.98万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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Extremely Sharp Free Exciton Emission in Heteroepitaxial Cuprous Iodide Thin Films Grown by MBE
MBE 异质外延碘化亚铜薄膜中极其尖锐的自由激子发射
MBE 异质外延碘化亚铜薄膜中极其尖锐的自由激子发射
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Masao Nakamura, Sotato Inagaki, Yoshihiro Okamura, Makiko Ogino, Youtarou Takahashi, Licong Peng, Xiuzhen Yu, Yoshinori Tokura, Masashi Kawasaki]
通讯作者：
Masashi Kawasaki
DOI：
10.1103/physrevb.106.155135
发表时间：
2022-10
期刊：
Physical Review B
影响因子：
3.7
作者：
[Meng Wang;K. Matsuura;M. Nakamura;M. Sawada;M. Kawasaki;F. Kagawa]
通讯作者：
Meng Wang;K. Matsuura;M. Nakamura;M. Sawada;M. Kawasaki;F. Kagawa
分子性結晶における非線形光電流応答
分子晶体中的非线性光电流响应
分子晶体中的非线性光电流响应
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Maria Vanessa Balois, Norihiko Hayazawa, and Takuo Tanaka,, 中村優男]
通讯作者：
中村優男
膜厚制御されたPbI2薄膜における二次元励起子閉じ込め効果
可控厚度 PbI2 薄膜中的二维激子限制效应
可控厚度 PbI2 薄膜中的二维激子限制效应
DOI：
--
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
作者：
[中村 優男, 難波 隆一, 安波 貴広, 小川 直毅, 十倉 好紀, 川﨑 雅司]
通讯作者：
川﨑 雅司
ヘテロエピタキシャル成長したCuI 単結晶薄膜における自由励起子発光
异质外延生长 CuI 单晶薄膜中的自由激子发射
异质外延生长 CuI 单晶薄膜中的自由激子发射
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[稲垣宗太朗, 中村優男, 岡村嘉大, 荻野槙子, 高橋陽太郎, Licong Peng, Xiuzhen Yu, 十倉好紀, 川﨑雅司]
通讯作者：
川﨑雅司
共 26 条
Farbrication of polar superstructures to develop new photovoltaic materials
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批准号：15H05426
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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资助金额：$15.97万
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财政年份：2015
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负责人：Nakamura Masao
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依托单位：
海外基金