自律低温プロセスによるSi量子ドットの高収率生成と高品質化の同時実現
自律低温プロセスによるSi量子ドットの高収率生成と高品質化の同時実現
通过自主低温工艺同时实现硅量子点的高产率生产和高质量
批准号：
24K07564
负责人：
中村 俊博
金额：
$2.66万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-01 至 2027-03-31
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アフリカツメガエルにおける免疫応答性の発生遺伝学的研究
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批准号：61790231
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.64万
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财政年份：1986
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负责人：中村 俊博
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依托单位：