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強誘電体薄膜上でのチエノチオフェン系薄膜の成長制御とメモリデバイス応用
铁电薄膜上基于噻吩并噻吩的薄膜的生长控制和存储器件应用
基本信息
- 批准号：24K07582
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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- 发表时间：
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