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新奇量子系実現のための多元化合物ヘテロ界面の結晶成長
多组分化合物异质界面的晶体生长以实现新型量子系统
基本信息
- 批准号：24K08275
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-04-01 至 2028-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
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会议论文数量（0）
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RFマグネトロンスパッタリング法によるCuGaO2結晶薄膜の作製と子の物性評価
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- 影响因子：0
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竹内 史和
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- 发表时间：
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- 影响因子：0
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T. Miyake
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- 发表时间：
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- 影响因子：0
- 作者：
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小出 康夫
Fabrication of High-Density Nanoetchpit Array by Eiectron Beam LithograPhy Using Alkylsilane Monolayer Resist
使用烷基硅烷单层抗蚀剂通过电子束光刻技术制造高密度纳米蚀刻坑阵列
- DOI：
- 发表时间：
2007 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
吉田直人;鈴木遼太郎;河原塚篤;堀越佳冶;吉崎 忠;市村 洋介;西永 慈郎;西永 慈郎;Y. Horikoshi;Y. Horikoshi;J. Nishinaga;A. Kawaharazuka;竹内 史和;小松崎 優治;大西 潤哉;河原 塚篤;原田 亮平;長井 健一郎;T. Watanabe;I. Ohdomari;I. Ohdomari;T. Watanabe;H. Yamamoto;T. Miyake;R. Akahori;M. Nakamoto - 通讯作者：
M. Nakamoto
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Epitaxial abrupt interfaces of multinary compound semiconductors
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- 批准号：
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- 批准号：
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CDT 第 1 年，预计 2024 年 10 月
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