ホウ素を高濃度で含有する3次元グラフェン多孔体の創成
ホウ素を高濃度で含有する3次元グラフェン多孔体の創成
高浓度硼三维石墨烯多孔材料的制备
批准号：
24KJ0439
负责人：
若林 佳吾
金额：
$1.41万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-23 至 2027-03-31
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