权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

Key factors that predominantly affact electrical and mechanical properties of ultrananpcrystalline diamond films

主要影响超纳米晶金刚石薄膜电学和机械性能的关键因素

基本信息

批准号：
19H02436
负责人：
Yoshitake Tsuyoshi
金额：
$ 11.15万
依托单位：
Kyushu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19H02436/
关键词：
ナノダイヤモンドダイヤモンド同軸型アークプラズマ堆積法物理気相成長法硬質被膜オーミック電極硬度耐酸腐食性ヤング弾性率オーミック特性半導体物性機械特性薄膜創製薄膜半導体コーティングレーザーアブレーション法

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（98）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Highly Conductive Layers Formation on Singlecrystalline Diamond

单晶金刚石上高导电层的形成

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
NEW DIAMOND
影响因子：
0
作者：
Ali Ali M.;Egiza Mohamed;Murasawa Koki;Sugita Hiroaki;Deckert-Gaudig Tanja;Deckert Volker;Yoshitake Tsuyoshi;Eslam Abubakr，Hiroshi Ikenoue，Tsuyoshi Yoshitake
通讯作者：
Eslam Abubakr，Hiroshi Ikenoue，Tsuyoshi Yoshitake

Ultrananocrystalline diamond film coated on Titanium substrates by Arc Plasma Deposition Technique for biomedical applications

采用电弧等离子沉积技术在钛基底上涂覆超纳米晶金刚石薄膜，用于生物医学应用

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Lama Osman;Abdelrahman Zkria;Hiroshi Naragino and Tsuyoshi Yoshitake
通讯作者：
Hiroshi Naragino and Tsuyoshi Yoshitake

Si doping effects on mechanical properties of ultrananocrystalline diamond/ amorphous carbon composite films deposited on cemented carbide

Si掺杂对硬质合金超纳米晶金刚石/非晶碳复合薄膜力学性能的影响

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Egiza;K. Murasawa;A.M. Ali;Y. Fukui;H. Gonda;M. Sakurai;T. Yoshitake
通讯作者：
T. Yoshitake

同軸型アークプラズマ成膜法による超ナノ微結晶ダイヤモンド電極の作製と電気化学的耐腐食性

同轴电弧等离子体沉积法制备超纳米微晶金刚石电极及其耐电化学腐蚀性能

DOI：
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
0
作者：
楢木野宏;長野里基;橋口寛生;吉武剛
通讯作者：
吉武剛

Effective Charge Collection in Diamond Detectors Through Direct OhmicContact Writing by Nanosecond Laser Irradiation

通过纳秒激光照射直接欧姆接触写入在钻石探测器中有效收集电荷

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Eslam N. H. ABUBAKR;Shinya Ohmagari;Abdelrahman Zkria;Hiroshi Ikenoue;Tsuyoshi Yoshitake
通讯作者：
Tsuyoshi Yoshitake

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Yoshitake Tsuyoshi其他文献

Enhanced in-plane uniformity and breakdown strength of diamond Schottky barrier diodes fabricated on heteroepitaxial substrates

增强异质外延基板上制造的金刚石肖特基势垒二极管的面内均匀性和击穿强度

DOI：
10.35848/1347-4065/abd537
发表时间：
2021
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Sittimart Phongsaphak;Ohmagari Shinya;Yoshitake Tsuyoshi
通讯作者：
Yoshitake Tsuyoshi

Hydrogenation effects on photoresponsivity in heterojunction diodes comprising p-type ultrananocrystalline diamond films and n-Si substrates

氢化对 p 型超纳米晶金刚石膜和 n-Si 衬底异质结二极管光响应性的影响

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takeichi Satoshi;Nishiyama Takashi;Tabara Mitsuru;Kawawaki Shuichi;Kohno Masamichi;Takahashi Koji;Yoshitake Tsuyoshi;Satoshi Takeichi;Satoshi Takeichi;Naofumi Nishikawa
通讯作者：
Naofumi Nishikawa

Ca2RuO4薄膜における電流誘起抵抗転移のRu欠損量依存性

Ca2RuO4 薄膜中电流诱导电阻转变的 Ru 缺乏量依赖性

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Sittimart Phongsaphak;Ohmagari Shinya;Matsumae Takashi;Umezawa Hitoshi;Yoshitake Tsuyoshi;福地厚，椿啓司，石田典輝，片瀬貴義，神谷利夫，有田正志，高橋庸夫
通讯作者：
福地厚，椿啓司，石田典輝，片瀬貴義，神谷利夫，有田正志，高橋庸夫

Hydrogenation Effects on Interfacial Thermal Conductance at Grain Boundaries of Ultrananocrystalline Diamond Films

加氢对超纳米晶金刚石薄膜晶界界面热导率的影响

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takeichi Satoshi;Nishiyama Takashi;Tabara Mitsuru;Kawawaki Shuichi;Kohno Masamichi;Takahashi Koji;Yoshitake Tsuyoshi;Satoshi Takeichi
通讯作者：
Satoshi Takeichi

Optimal Sequence and SINR for Desired User in Asynchronous CDMA System

异步CDMA系统中期望用户的最优序列和SINR

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takeichi Satoshi;Nishiyama Takashi;Tabara Mitsuru;Kawawaki Shuichi;Kohno Masamichi;Takahashi Koji;Yoshitake Tsuyoshi;Satoshi Takeichi;Satoshi Takeichi;Naofumi Nishikawa;Hirofumi Tsuda;Hirofumi Tsuda
通讯作者：
Hirofumi Tsuda