Study of the mechanism of improved resistance of silver thin films under high humidity

高湿条件下银薄膜电阻提高机理研究

基本信息

  • 批准号：
    19H02471
  • 负责人：
    Kawamura Midori
  • 金额：
    $ 9.57万
  • 依托单位：
    Kitami Institute of Technology
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份：
    2019
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（30）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Optical characterization and emission enhancement property of Ag nanomesh structure fabricated by nanosphere lithography
  • DOI：
    10.1016/j.surfcoat.2022.128258
  • 发表时间：
    2022-02
  • 期刊：
    Surface and Coatings Technology
  • 影响因子：
    5.4
  • 作者：
    Mai Ugajin;Soyoung Park;T. Kiba;J. Takayama;S. Hiura;A. Murayama;M. Kawamura;Y. Abe
  • 通讯作者：
    Mai Ugajin;Soyoung Park;T. Kiba;J. Takayama;S. Hiura;A. Murayama;M. Kawamura;Y. Abe
表界面ナノレイヤを活用した高安定・高性能銀薄膜の開発
利用表面和界面纳米层开发高度稳定和高性能的银薄膜
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Takayuki Kiba;Kazuaki Masui;Yuuki Inomata;Atsushi Furumoto;Midori Kawamura;Yoshio Abe;Kyung Ho Kim;川村みどり
  • 通讯作者：
    川村みどり
Optical properties of very thin Ag films deposited on Al interlayer
铝中间层上沉积的极薄银薄膜的光学特性
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Ryouto Atsuya;Takuya Hirano;Midori Kawamura;Takayuki Kiba;Yoshio Abe;Kyung Ho Kim
  • 通讯作者：
    Kyung Ho Kim
Size dependence of emission enhancement of Tris(8-hydroxyquinolinato) aluminum with plasmonic Al nanostructure
  • DOI：
    10.1016/j.tsf.2020.137920
  • 发表时间：
    2020-04
  • 期刊：
    Thin Solid Films
  • 影响因子：
    2.1
  • 作者：
    Natsumi Iijima;Mai Ugajin;T. Kiba;M. Kawamura;Y. Abe;K. Kim;A. Higo;J. Takayama;S. Hiura;A. Murayama
  • 通讯作者：
    Natsumi Iijima;Mai Ugajin;T. Kiba;M. Kawamura;Y. Abe;K. Kim;A. Higo;J. Takayama;S. Hiura;A. Murayama
Characteristics and environmental durability of Ag films with and without Al surface layer sputtered in Ar or Kr gas
Ar或Kr气体中溅射有无Al表面层的Ag薄膜的特性及环境耐久性
  • DOI：
    10.1016/j.tsf.2020.138020
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Thin Solid Films
  • 影响因子：
    2.1
  • 作者：
    Takeshi Hamano;Eita Kudo;Midori Kawamura;Takayuki Kiba;Yoshio Abe;Kyung Ho Kim;Hiroshi Murotani
  • 通讯作者：
    Hiroshi Murotani
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Kawamura Midori其他文献

摩擦攪拌点接合技術を利用したアルミナとマグネシウムを含むアルミニウム合金との接合
使用搅拌摩擦点连接技术连接氧化铝和含镁铝合金
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
    第29回 マイクロエレクトロニクスシンポジウム 論文集
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Yokoiwa Yuki;Abe Yoshio;Kawamura Midori;Kim Kyung Ho;Kiba Takayuki;園村 浩介，尾崎 友厚，片桐 一彰，長谷川 泰則，田中 努，垣辻 篤
  • 通讯作者：
    園村 浩介，尾崎 友厚，片桐 一彰，長谷川 泰則，田中 努，垣辻 篤
アルミニウム合金の加工熱処理工程における組織形成機構の解明
阐明铝合金热处理过程中的组织形成机制
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Kiba Takayuki;Iijima Natsumi;Yanome Kazuki;Kawamura Midori;Abe Yoshio;Kim Kyung Ho;Takase Mai;Higo Akio;Takayama Junichi;Hiura Satoshi;Murayama Akihiro;池田賢一
  • 通讯作者：
    池田賢一
Metallic-mode reactive sputtering of nickel oxide thin films and characterization of their electrochromic properties
氧化镍薄膜的金属模式反应溅射及其电致变色性能表征
  • DOI：
    10.7567/1347-4065/ab1189
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
    Japanese Journal of Applied Physics
  • 影响因子：
    1.5
  • 作者：
    Yokoiwa Yuki;Abe Yoshio;Kawamura Midori;Kim Kyung Ho;Kiba Takayuki
  • 通讯作者：
    Kiba Takayuki
Effects of annealing temperature on electrochemical properties of nickel oxide nanostructures
退火温度对氧化镍纳米结构电化学性能的影响
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Kyung Ho Kim;Kazuhiro Taguchi;Yoshio Abe;Kawamura Midori;Takayuki Kiba
  • 通讯作者：
    Takayuki Kiba

Kawamura Midori的其他文献

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  • 通讯作者：
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