Low Dislocation of Semi-Polar AlN Virtual Substrates by Multi-Step High Temperature Growth Method and Deep UV Light Emitting Diodes

多步高温生长法和深紫外发光二极管低位错半极性AlN虚拟衬底

基本信息

  • 批准号：
    19K05297
  • 负责人：
    Jo Masafumi
  • 金额：
    $ 2.75万
  • 依托单位：
    Institute of Physical and Chemical Research
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2019
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（2）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Fabrication of semipolar AlGaN UV LEDs on sapphire substrates
在蓝宝石衬底上制造半极性 AlGaN UV LED
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Masafumi Jo
  • 通讯作者：
    Masafumi Jo
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  • 发表时间：
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  • 期刊：
    Journal of Applied Physics
  • 影响因子：
    3.2
  • 作者：
    Murotani Hideaki;Miyoshi Hiroyuki;Takeda Ryohei;Nakao Hiroki;Ajmal Khan M.;Maeda Noritoshi;Jo Masafumi;Hirayama Hideki;Yamada Yoichi
  • 通讯作者：
    Yamada Yoichi
Giant tunnel magnetoresistance ratio and oscillation in Fe/MgO/Fe(001) and Fe/MgAlO/Fe(001) magnetic tunnel junctions
Fe/MgO/Fe(001) 和 Fe/MgAlO/Fe(001) 磁隧道结中的巨隧道磁阻​​比和振荡
  • DOI：
  • 发表时间：
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  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Murotani Hideaki;Miyoshi Hiroyuki;Takeda Ryohei;Nakao Hiroki;Ajmal Khan M.;Maeda Noritoshi;Jo Masafumi;Hirayama Hideki;Yamada Yoichi;シェーク トーマス 介川 裕章 向 清懿 温 振超 大久保 忠勝 宝野 和博 三谷 誠司
  • 通讯作者：
    シェーク トーマス 介川 裕章 向 清懿 温 振超 大久保 忠勝 宝野 和博 三谷 誠司
Evaluation of internal quantum efficiency and stimulated emission characteristics in AlGaN-based multiple quantum wells
AlGaN 基多量子阱内量子效率和受激发射特性评估
  • DOI：
    10.35848/1347-4065/ac3025
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
    Japanese Journal of Applied Physics
  • 影响因子：
    1.5
  • 作者：
    Yamada Yoichi;Murotani Hideaki;Maeda Noritoshi;Khan M. Ajmal;Jo Masafumi;Hirayama Hideki
  • 通讯作者：
    Hirayama Hideki
High internal quantum efficiency and optically pumped stimulated emission in AlGaN-based UV-C multiple quantum wells
AlGaN 基 UV-C 多量子阱中的高内量子效率和光泵受激发射
  • DOI：
    10.1063/5.0027697
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Applied Physics Letters
  • 影响因子：
    4
  • 作者：
    Murotani Hideaki;Tanabe Ryohei;Hisanaga Keisuke;Hamada Akira;Beppu Kanta;Maeda Noritoshi;Khan M. Ajmal;Jo Masafumi;Hirayama Hideki;Yamada Yoichi
  • 通讯作者：
    Yamada Yoichi

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作者：{{ showInfoDetail.author }}

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