Development of a novel dental caries therapy based on hydrogen peroxide photolysis

基于过氧化氢光解的新型龋齿疗法的开发

基本信息

  • 批准号：
    19K10105
  • 负责人：
    Nakamura Keisuke
  • 金额：
    $ 2.75万
  • 依托单位：
    Tohoku University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2019
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（4）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Reactions of dental pulp to hydrogen peroxide photolysis-based antimicrobial chemotherapy under ultraviolet-A irradiation in rats
Applications of a novel antimicrobial chemotherapy utilizing HO generated by H2O2 photolysis to dental treatments
利用 H2O2 光解产生的 H2O 的新型抗菌化疗在牙科治疗中的应用
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Shirato M;Nakamura K;Tenkumo T;Niwano Y;Kanno T;Sasaki K;Lingstrom P;Ortengren U;Nakamura K
  • 通讯作者：
    Nakamura K
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CD4+ resident memory T cells colocalize with conventional DC subset 2 in lymphocyte clusters in a murine delayed-type hypersensitivity model
在小鼠迟发型超敏反应模型中，CD4 常驻记忆 T 细胞与淋巴细胞簇中的常规 DC 子集 2 共定位
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Munby Montgomery;Fujiki Jumpei;Aoki Kotaro;Kawaguchi Chika;Nakamura Keisuke;Nakamura Tomohiro;Sasaki Michihito;Sato Toyotaka;Usui Masaru;Sawa Hirofumi;Yokota Shin-ichi;Tamura Yutaka;Iwano Hidetomo;Ryota Asahina
  • 通讯作者：
    Ryota Asahina
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  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Wang Mengyue;Nakamura Keisuke;Arifuku Michiharu;Kiyoyanagi Noriko;Inoue Taiki;Kobayashi Yoshihiro;安藤杏将，西山幸輝，山田翔英，古川琢磨，岡部孝裕;Hisaya Komen
  • 通讯作者：
    Hisaya Komen
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  • DOI：
  • 发表时间：
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  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
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  • 通讯作者：
    Nakadai Kazuhiro
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  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Wang Mengyue;Nakamura Keisuke;Arifuku Michiharu;Kiyoyanagi Noriko;Inoue Taiki;Kobayashi Yoshihiro;安藤杏将，西山幸輝，山田翔英，古川琢磨，岡部孝裕;Hisaya Komen;Takuma Hori
  • 通讯作者：
    Takuma Hori
Arbitrary control of the diffusion potential between a plasmonic metal and a semiconductor by an angstrom-thick interface dipole layer
通过埃厚的界面偶极层任意控制等离子体金属和半导体之间的扩散势
  • DOI：
    10.1063/1.5134900
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    The Journal of Chemical Physics
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Oshikiri Tomoya;Sawayanagi Hiroki;Nakamura Keisuke;Ueno Kosei;Katase Takayoshi;Ohta Hiromichi;Misawa Hiroaki
  • 通讯作者：
    Misawa Hiroaki

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    2024
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    $ 2.75万
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  • 财政年份：
    2024
  • 资助金额：
    $ 2.75万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    2024
  • 资助金额：
    $ 2.75万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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