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CVD Technique for Homogeneous Deposition of Metal Oxide Nanoparticles by Controlling Gas Diffusion

CVD Technique for Homogeneous Deposition of Metal Oxide Nanoparticles by Controlling Gas Diffusion
控制气体扩散均匀沉积金属氧化物纳米粒子的CVD技术
批准号：
18K04820
负责人：
Iwamura Shinichiroh
金额：
$2.83万
依托单位：
Hokkaido University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2021-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18K04820/
关键词：
反応プロセスナノ材料エネルギーデバイス炭素材料化学気相析出法多孔質材料ナノ粒子担持光触媒化学気相成長法製造プロセス多孔質炭素ナノ複合材料電極材料担持触媒

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種々の多孔体へのTiO2ナノ粒子の均一担持に向けた新規CVDプロセスの開発
开发一种新的 CVD 工艺，用于在各种多孔材料上均匀支撑 TiO2 纳米颗粒
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [岩村 振一郎, 本橋 翔大, 向井 紳]
通讯作者： 向井 紳
北海道大学大学院工学研究院　材料化学工学研究室
北海道大学大学院工学研究科材料化学工学研究室
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
SiC/CNFナノ複合体を前駆体したキャパシタ用多孔質炭素の作製
SiC/CNF纳米复合材料前驱体制备电容器用多孔碳
DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： [楠 脩平, 岩村 振一郎, 向井 紳]
通讯作者： 向井 紳
多孔質炭素への金属酸化物ナノ粒子の均一担持に向けた気相プロセスの開発
开发在多孔碳上均匀负载金属氧化物纳米颗粒的气相工艺
DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： [岩村振一郎, 本橋翔大, 向井紳]
通讯作者： 向井紳
共 20 条
    Development of efficient techniques to produce TiO2/C nanocomposites by controlling vapor phase reactions
    • 批准号：
      16K18283
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额：
      $2.75万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Iwamura Shinichiroh
    • 依托单位：
      Hokkaido University
    Large-scale Production of Si/C Composites for Negative Electrode thorough the Liquid Pulse Injection Technique
    • 批准号：
      26820342
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      Iwamura Shinichiroh
    • 依托单位：
      Hokkaido University
    海外基金