Quantitative analysis of surface strain of bent film: Fabrication of high performance flexible substrate by molecular orientation design

弯曲薄膜表面应变的定量分析:通过分子取向设计制造高性能柔性基板

基本信息

  • 批准号:
    18K14297
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(48)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
選択反射を示すコレステリック液晶センサーを導入したシリコーンエラストマーのひずみ挙動解析
结合胆甾型液晶传感器的有机硅弹性体的应变行为分析表现出选择性反射
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    北中佑樹;野口祐二;宮山勝;井上 悟,東野 寿樹,荒井 俊人,佐賀山 遼子,熊井 玲児,松井 弘之,都築 誠二,長谷川 達生;岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚
  • 通讯作者:
    岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚
Effect of Hardness on Surface Strain of PDMS Films Detected by a Surface Labeled Grating Method
表面标记光栅法检测PDMS薄膜表面应变的硬度影响
  • DOI:
    10.2494/photopolymer.31.523
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0.8
  • 作者:
    Akamatsu Norihisa;Fukuhara Motoyuki;Fujikawa Shigenori;Shishido Atsushi
  • 通讯作者:
    Shishido Atsushi
選択反射を示すコレステリック液晶を利用した湾曲シリコーンエラストマー内部の面外ひずみ解析
使用表现出选择性反射的胆甾型液晶对弯曲有机硅弹性体内部的面外应变进行分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kitanaka Yuuki;Miyayama Masaru;Noguchi Yuji;井上 悟,東野 寿樹,荒井 俊斗,熊井 玲児,松井 弘之,都築 誠二,堀内 佐智雄,長谷川 達生;岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚
  • 通讯作者:
    岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚
コレステリック液晶センサーによるソフトマテリアルの湾曲内部ひずみ解析
使用胆甾型液晶传感器进行软材料弯曲内应变分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Matsuoka Masaya;Mine Shinya;Toyao Takashi;Horiuchi Yu;岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚;桑原恒平,徳光香代子,田口諒,赤松範久,藤川茂紀,宍戸厚;徳光香代子,田口諒,赤松範久,藤川茂紀,宍戸厚;岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚;徳光香代子,田口諒,赤松範久,藤川茂紀,宍戸厚;田口諒,徳光香代子,赤松範久,藤川茂紀,宍戸厚;岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚
  • 通讯作者:
    岸野真之,久野恭平,堤治,赤松範久,宍戸厚
光機能性有機・高分子材料における新たな息吹
光功能有机/聚合物材料的新光呼吸
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kanji Suyama;Hideki Tachi;末本貴大・森本きえ・佐川志朗;舘秀樹,陶山寛志;田和康太・永山滋也・中村圭吾;舘秀樹,陶山寛志;田和康太・永山滋也・中村圭吾;市村國宏,舘秀樹,陶山寛志
  • 通讯作者:
    市村國宏,舘秀樹,陶山寛志
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    Rintaro Takahashi
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  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Aizawa Miho;Ota Megumi;Hisano Kyohei;Akamatsu Norihisa;Sasaki Takeo;Barrett Christopher J.;Shishido Atsushi;王 真金,川上 祥広,楊 鎮駿,成田 史生
  • 通讯作者:
    王 真金,川上 祥広,楊 鎮駿,成田 史生
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Akamatsu Norihisa;Fukuhara Motoyuki;Fujikawa Shigenori;Shishido Atsushi;齊藤雄太
  • 通讯作者:
    齊藤雄太

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