Development of ambient-pressure ultrasoft x-ray surface XAFS and application to operando observation of catalytic reactions under ambient pressure conditions

常压超软X射线表面XAFS的研制及其在常压条件下催化反应操作观察中的应用

基本信息

  • 批准号：
    18K19064
  • 负责人：
    Kondoh Hiroshi
  • 金额：
    $ 4.08万
  • 依托单位：
    Keio University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
  • 财政年份：
    2018
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2018-06-29 至 2021-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（4）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
軟X線転換電子収量大気圧表面XAFS測定セルの開発
软X射线转换电子产额大气压表面XAFS测量单元的研制
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    清水啓史;伊勢川和久;市川理世;豊島遼;武安光太郎;中村潤児;間瀬一彦;近藤寛
  • 通讯作者：
    近藤寛
大気圧極端軟X線転換電子収量XAFS測定システムの開発
大气压极软X射线转换电子产额XAFS测量系统研制
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    清水啓史;伊勢川和久;市川理世;豊島遼;武安光太郎;中村潤児; 間瀬一彦;近藤寛
  • 通讯作者：
    近藤寛
極端軟X線転換電子収量大気圧XAFS測定セルの開発
开发极端软X射线转换电子产额大气压XAFS测量单元
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    清水啓史;伊勢川和久;市川理世;豊島遼;武安光太郎;中村潤児;間瀬一彦;近藤寛
  • 通讯作者：
    近藤寛
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  • 通讯作者：
    Tomishige Keiichi
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  • DOI：
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  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Tsusaka Takeshi;Guo Tingting;Yagura Teiti;Inoue Toshiaki;Yokode Masayuki;Inagaki Nobuya;Kondoh Hiroshi;Naoto Kifuku and Hideki Nakagoshi
  • 通讯作者：
    Naoto Kifuku and Hideki Nakagoshi
Surfaces and interfaces
表面和界面
  • DOI：
    10.1107/s1574870720004711
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
    International Table for Crystallography
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Asakura Kiyotaka;Kondoh Hiroshi;Tada Mizuki;Iwasawa Yasuhiro
  • 通讯作者：
    Iwasawa Yasuhiro
光圧の影響を受けて今
现在在轻压的影响下
  • DOI：
  • 发表时间：
    2023
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Chen Jiatang;Kawai Jumpei;Ozawa Kosei;Toyoshima Ryo;Tomishige Keiichi;Kondoh Hiroshi;土井謙太郎
  • 通讯作者：
    土井謙太郎

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