UHV-Ambient Pressure Infrared Reflection Absorption Spectroscopy Facility

在一个超高压真空（UHV）的真空室中进行反应机理和动力学的复杂纳米结构模型的研究，以使其与实验相关，这是一个在真空室中进行的实验研究。这种超高压输电系统将采用偏振-调制-红外光谱（PM-IRAS）和分子激光法及四极质谱法进行动力学和动力学控制，从而实现超高压输电系统的组合。Zusätzlich umfastst diese Apparatur eine Reihe von in situ Preparations- und Charakterisierungsmethoden für oxid-basierten Modell-Katalysatoroberflächen，die unter wohl-definierten UHV Bedingungen durch den den epitaktischen Wachstum auf Metalleinkristallen präpariert韦尔登.在10 E-10 bis zu 1000 mbar的压力下，这些热动力学和光谱学特性将被视为一种等同的模型，并将对压力和反应的影响作用于反应性和反应工业上的结构进行研究。这种实验方法的结合将是一种新的方法，一种用于原子吸收的非均相催化剂化学方法，因此在UHV下也可以进行更好的应用。

Zur Untersuchung der Reaktionsmechanismen und -kinetik an komplexen nanostrukturierten Modelloberflächen in einem breiten Druckbereich – von Ultrahochvakuum- (UHV) bis zur anwendungsrelevanten Bedingungen – ist eine Ausweitung der experimentellen Kapazitäten im Bereich der Schwingungsspektroskopie und Gasphasenanalytik unbedingt notwendig. Das beantragte UHV Gerät wird eine Kombination aus den schwingungsspektroskopischen Untersuchungen an wohl-definierten Grenzflächen mittels Polarisations-Modulation-Infrarot-Spektroskopie (PM-IRAS) und kontrollierten kinetischen und dynamischen Messungen mittels Molekularstrahlmethoden und Quadrupol-Massenspektrometrie erlauben. Zusätzlich umfasst diese Apparatur eine Reihe von in-situ Präparations- und Charakterisierungsmethoden für oxid-basierten Modell-Katalysatoroberflächen, die unter wohl-definierten UHV Bedingungen durch den epitaktischen Wachstum auf Metalleinkristallen präpariert werden. Dieses Gerät wird die die Durchführung kinetischer und spektroskopischer Studien im breiten Druckbereich von 10E-10 bis zu 1000 mbar an identischen Modellkatalysatoroberflächen erlauben und somit den Einfluss der Druck- und Reaktionsbedingungen auf die Reaktivität und auf die reaktioninduzierte Änderungen der Oberflächenstruktur zu studieren. Diese Kombination der experimentellen Methoden wird es erlauben, einen wichtigen Beitrag zum atomistischen Verständnis heterogenkatalysierter chemischer Prozessen, sowohl unter UHV als auch unter anwendungsnahen Bedingungen, zu liefern.