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材料表面上におけるシリカ・シリケートスケール形成機構の解明とモデル化

材料表面上におけるシリカ・シリケートスケール形成機構の解明とモデル化
材料表面二氧化硅/硅酸盐结垢形成机制的阐明和建模
批准号:
23K23074
负责人:
盛田 元彰
金额:
$2.08万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2024
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2024-02-28 至 2026-03-31
关键词:

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Elucidation of silica and silicate scaling mechanism on material surfaces and its modelling
高強度合金の低温疲労において形成する転位下部組織と応力集中のモデル化
  • 批准号:
    10J00088
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $0.9万
  • 财政年份:
    2010
  • 负责人:
    盛田 元彰
  • 依托单位: