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高速オペランド電子線ホログラフィーの開発と電荷挙動解析への応用

高速オペランド電子線ホログラフィーの開発と電荷挙動解析への応用
高速操作电子束全息技术的发展及其在电荷行为分析中的应用
批准号：
23K26551
负责人：
穴田 智史
金额：
$3.08万
依托单位：
Japan Fine Ceramics Center
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-02-28 至 2026-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-23K26551/
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高速オペランド電子線ホログラフィーの開発と電荷挙動解析への応用
  • 批准号：
    23H01858
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $9.57万
  • 财政年份：
    2023
  • 负责人：
    穴田 智史
  • 依托单位：
    Japan Fine Ceramics Center