Development of Sputter Epitaxy Technique and Elucidation of the Origin of Ferromagnetism for Magnetic Transparent Conducting Films
Development of Sputter Epitaxy Technique and Elucidation of the Origin of Ferromagnetism for Magnetic Transparent Conducting Films
溅射外延技术的发展及磁性透明导电薄膜铁磁性起源的阐明
批准号：
23KJ1266
负责人：
北川 彩貴
金额：
$1.28万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-04-25 至 2025-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文