新しい基板主面と新しいエッチング手法による酸化ガリウム微細加工デバイスの開発
新しい基板主面と新しいエッチング手法による酸化ガリウム微細加工デバイスの開発
使用新衬底主表面和新蚀刻方法开发氧化镓微加工器件
批准号：
24K01368
负责人：
大島 孝仁
金额：
$11.81万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-01 至 2027-03-31
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会议论文
分子線エピタキシー法による酸化ガリウム系深紫外発光ダイオードの作製と評価
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批准号：08J06591
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项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额：$0.77万
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财政年份：2008
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负责人：大島 孝仁
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依托单位：