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鉄・ニッケル合金薄膜記憶素子の開発研究

鉄・ニッケル合金薄膜記憶素子の開発研究
铁镍合金薄膜存储元件的研发
批准号:
X43120-----59008
负责人:
向 正夫
金额:
$0.61万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
财政年份:
1968
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1968 至 --
关键词:

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無機材質への無電解めっきによる電子部品の製作
  • 批准号:
    X00080----947042
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $5.3万
  • 财政年份:
    1974
  • 负责人:
    向 正夫
  • 依托单位:
アマルガム電解製錬の基礎研究
  • 批准号:
    X00090----755197
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.6万
  • 财政年份:
    1972
  • 负责人:
    向 正夫
  • 依托单位:
スズ, インジウムのアマルガム電解製錬
  • 批准号:
    X42440-----59108
  • 项目类别:
    Particular Research
  • 资助金额:
    $0.18万
  • 财政年份:
    1967
  • 负责人:
    向 正夫
  • 依托单位: