Simultaneous measurement of turbulent transport characteristics on the high and low field side in edge tokamak plasma

この研究では、ボールペン(BP)プローブ計測法を小型トカマク装置PLATOに適用するため、直線磁化装置PANTAにおいてBPプローブを制作・校正し、プラズマ空間電位と温度の計測を行いました。また、PANTAプラズマの磁場強度、ソースパワー、ガス注入量を変更しながらBPプローブの基本特性を確認し、調整を行いました。一方、BPプローブを用いてPANTAプラズマの半径分布を測定した結果、プラズマ密度が著しく低い周辺領域では、従来のプローブによる測定値の電子温度とは異なる結果が得られました。この結果は、BPプローブのチップやシールドセラミックの直径などの影響を受けたと考えられます。これらの結果を踏まえ、プラズマ乱流による熱流速の空間分布を測定するまめの多チャンネルのBPプローブを設計中です。

この研究では、ボールペン(BP)プローブ計測法を小型トカマク装置PLATOに適用するため、直線磁化装置PANTAにおいてBPプローブを制作・校正し、プラズマ空間電位と温度の計測を行いました。また、PANTAプラズマの磁場強度、ソースパワー、ガス注入量を変更しながらBPプローブの基本特性を確認し、調整を行いました。一方、BPプローブを用いてPANTAプラズマの半径分布を測定した結果、プラズマ密度が著しく低い周辺領域では、従来のプローブによる測定値の電子温度とは異なる結果が得られました。この結果は、BPプローブのチップやシールドセラミックの直径などの影響を受けたと考えられます。これらの結果を踏まえ、プラズマ乱流による熱流速の空間分布を測定するまめの多チャンネルのBPプローブを設計中です。