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斜入射X線非弾性散乱法によるGeおよびSi表面・界面のフォノン散乱解明に関する研究
利用掠入射X射线非弹性散射法阐明Ge和Si表面和界面上声子散射的研究
基本信息
- 批准号：24K17313
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
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会议论文数量（0）
专利数量（0）
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- DOI：
- 发表时间：
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- 影响因子：0
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