斜入射X線非弾性散乱法によるGeおよびSi表面・界面のフォノン散乱解明に関する研究
利用掠入射X射线非弹性散射法阐明Ge和Si表面和界面上声子散射的研究
基本信息
- 批准号:24K17313
- 负责人:
- 金额:$ 3万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份:2024
- 资助国家:日本
- 起止时间:2024-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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