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微細加工と組成制御によるSiGe/Si面直界面を有する熱電薄膜構造の開発

通过微加工和成分控制开发具有SiGe/Si垂直界面的热电薄膜结构

基本信息

批准号：
24K17513
负责人：
谷口達彦
金额：
$ 2.91万
依托单位：
Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2024
资助国家：
日本
起止时间：
2024-04-01 至 2027-03-31
项目状态：
未结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-24K17513/
关键词：

项目摘要

项目成果

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