Molecular-Net技術によるSiOx超薄膜のワンステップ製膜
Molecular-Net技術によるSiOx超薄膜のワンステップ製膜
利用分子网技术一步法制备超薄 SiOx 薄膜
批准号：
24K17544
负责人：
森山 教洋
金额：
$3.08万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-01 至 2027-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
流体の密度分布を考慮した透過モデルに基づく透過速度解析と水蒸気分離膜の設計指針
-
批准号：23K19185
-
项目类别：Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
-
资助金额：$1.83万
-
财政年份：2023
-
负责人：森山 教洋
-
依托单位：
微多孔シリカ膜の開発と脱水プロセスへの応用－膜開発・性能評価・分子透過機構－
-
批准号：19J22400
-
项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额：$1.6万
-
财政年份：2019
-
负责人：森山 教洋
-
依托单位：