官能基修飾グラフェンを用いたギ酸クロスオーバー抑制バイポーラ膜の創出
官能基修飾グラフェンを用いたギ酸クロスオーバー抑制バイポーラ膜の創出
使用官能团修饰的石墨烯创建具有抑制甲酸交叉的双极膜
批准号：
24K17763
负责人：
Jeong Samuel
金额：
$3.08万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-01 至 2026-03-31
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