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プラズマ重合法による高分子薄膜の成長機構とその誘電体素子への応用

プラズマ重合法による高分子薄膜の成長機構とその誘電体素子への応用
等离子体聚合法聚合物薄膜的生长机理及其在介电器件中的应用
批准号：
X00120----185064
负责人：
家田 正之
金额：
$1.41万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
财政年份：
1976
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1976 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-X00120----185064/
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材料物性制御による超高圧プラスチック電力ケーブル用絶縁材料の開発に関する研究
  • 批准号：
    59460102
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $4.54万
  • 财政年份：
    1984
  • 负责人：
    家田 正之
  • 依托单位：
    Nagoya University
耐熱性高分子材料の高温絶縁破壊機構の解明とその性能改善に関する研究
  • 批准号：
    57460106
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $5.44万
  • 财政年份：
    1982
  • 负责人：
    家田 正之
  • 依托单位：
    Nagoya University
高次構造の制御による高分子の高電圧絶縁の向上
  • 批准号：
    56850085
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
  • 资助金额：
    $2.18万
  • 财政年份：
    1981
  • 负责人：
    家田 正之
  • 依托单位：
    Nagoya University
部分放電による長期絶縁劣化の経時変化とそのコンピュータ解析
  • 批准号：
    X00080----546100
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $5.63万
  • 财政年份：
    1980
  • 负责人：
    家田 正之
  • 依托单位：
    Nagoya University