エピタキシアル複合層による一体化 E - dE_1 - dE_2 シリコン検出器の試作
エピタキシアル複合層による一体化 E - dE_1 - dE_2 シリコン検出器の試作
使用外延复合层 E - dE_1 - dE_2 进行集成 硅探测器原型
批准号：
X00120----584007
负责人：
伏見 和郎
金额：
$3.39万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
财政年份：
1980
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1980 至 1981
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エピタキシアル法による薄膜シリコン固体検出器の試作
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批准号：X00120----084008
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项目类别：Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额：$1.04万
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财政年份：1975
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负责人：伏見 和郎
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依托单位：