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流動層接触反応装置の反応工学的研究

流動層接触反応装置の反応工学的研究
流化床催化反应器反应工程研究
批准号：
X46120----550164
负责人：
小林 晴夫
金额：
$0.83万
依托单位：
Hokkaido University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
财政年份：
1971
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1971 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-X46120----550164/
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迅速触媒反応動特性の解析的研究
  • 批准号：
    57550596
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.09万
  • 财政年份：
    1982
  • 负责人：
    小林 晴夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
二成分粒子系から成る流動層における粒子の飛出し速度に関する研究
  • 批准号：
    X00090----555368
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.66万
  • 财政年份：
    1980
  • 负责人：
    小林 晴夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
メタノールフォーミング反応とその触媒に関する研究
  • 批准号：
    X00090----255367
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    1977
  • 负责人：
    小林 晴夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University
流動層接触反応装置の反応工学的研究
  • 批准号：
    X45120-----50164
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
  • 资助金额：
    $0.67万
  • 财政年份：
    1970
  • 负责人：
    小林 晴夫
  • 依托单位：
    Hokkaido University