筆跡画線の縦横斜めの4方向別の凹み量を指標とした筆者識別手法の開発について

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この研究の目的は、筆跡を記載する際のペン先の圧力により生じた筆圧痕の凹み量を筆跡鑑定の定量的な指標として利用することである。現在の筆跡鑑定では、主に筆跡の2次元平面上の形を指標として筆者識別を行っている。しかし、平面上の形だけでは、他人の筆跡を観察しながら、まねて書いた偽造筆跡や、なぞり書きに対応できない。また、自分の癖を隠すようにコントロールした筆跡にも対応できない。そこで、肉眼による観察では、顕在化しにくい筆圧痕の凹み量を指標として利用する。これまでに、筆圧痕の深さ、幅とペン先の圧力に高い相関があること、特に、縦、横、右下がり、左下がりの4方向別の筆圧痕の幅の大小の程度の組み合わせに記載者間で違いが見られ個人識別の指標として有効と考えられた。研究では被験者が、4方向別の短い線分をタブレットに置かれた用紙上に記載する実験を行った。科警研で開発したソフトウェアにより、タブレットから記載時のペン先の圧力、ペン先の位置座標を測定した。以上のデータと筆圧痕の凹み量の相関関係について検定した。次に、記載用紙からペン先の圧力により形成された筆圧痕の深さ、幅を測定した。深さは、近赤外線LEDを照明として陰から形状を光学的モデルにて復元する手法により測定した。幅は測定顕微鏡により得た。以上の筆圧痕の深さと幅から凹み量を算出し筆跡の特徴量とした。被験者が4方向別の線分を記載した際、この凹み量が方向別、被験者別にどのような差を示すか分散分析により検定し、主成分分析を行った。その結果、4方向の画線の凹み量が、方向別に被験者間で固有な組み合わせと成ることを確認した。