PVD-Abscheideanlage für Nanomaterialien

纳米技术在近几年来在高科技领域取得了长足的进步，而且在纳米技术的应用中，一个纳米技术的概念也越来越重要。在最近几年里，CMOS技术并没有梅尔的功能，但在许多Wachstumsbranchen benötigt韦尔登中，现代系统的应用也是如此。Während Anlagensysteme für die Mikrotechnologien vor allem auf die Parameter DurchandUniformität optimiert waren，steht im Bereich der Nanotechnologien die Materialvielfalt im Vordergrund. Häufig韦尔登Schichtsysteme mit komplexer Stöchiometrie und in Form von größeren Multilagen benötigt，wobei intrinssche Effekte zum Erzielen der gewünschten Funktionalitäten benutzt韦尔登.切姆尼茨理工大学的ZfM可以用先进的设备技术来制造梅尔更好的材料。Da dieser Nachteil für den Nanotechnologie-Standort切姆尼茨als sehr kritisch eingeschätzt wird，ist die Beschaffung eines Anlagensystems speziell für die Nanotechnologie von greßer Wichtigkeit. Damit sollen vor allem ausreichend große Anzahl an Targetplätzen für komplexe Multilagen sowie eine Co-SputterFunktionalität zur Erzeugung von Schichten mit multipler Zusammensetzung bereitgestellt韦尔登.

Die Nanotechnologien haben in den letzten Jahren im Bereich der Hochtechnologie zunehmend an Bedeutung gewonnen und einige dieser Konzepte stehen bereits unmittelbar vor dem Übergang in die Applikation. Die in den letzten Jahrzehnten vorherrschende CMOS-Technologie kann inzwischen nicht mehr alle Funktionalitäten abbilden, welche für moderne systemische Ansätze in den loT-Wachstumsbranchen benötigt werden. Während Anlagensysteme für die Mikrotechnologien vor allem auf die Parameter Durchsatz und Uniformität optimiert waren, steht im Bereich der Nanotechnologien die Materialvielfalt im Vordergrund. Häufig werden Schichtsysteme mit komplexer Stöchiometrie und in Form von größeren Multilagen benötigt, wobei intrinsische Effekte zum Erzielen der gewünschten Funktionalitäten benutzt werden. Das ZfM der TU Chemnitz kann die geforderte Materialvielfalt mit der vorhandenen Anlagentechnik inzwischen nicht mehr ausreichend abbilden. Da dieser Nachteil für den Nanotechnologie-Standort Chemnitz als sehr kritisch eingeschätzt wird, ist die Beschaffung eines Anlagensystems speziell für die Nanotechnologie von großer Wichtigkeit. Damit sollen vor allem eine ausreichend große Anzahl an Targetplätzen für komplexe Multilagen sowie eine Co-SputterFunktionalität zur Erzeugung von Schichten mit multipler Zusammensetzung bereitgestellt werden.