PVD-Abscheideanlage für Nanomaterialien

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Die Nanotechnologien haben in den letzten Jahren im Bereich der Hochtechnologie zunehmend an Bedeutung gewonnen und einige dieser Konzepte stehen bereits unmittelbar vor dem Übergang in die Applikation. Die in den letzten Jahrzehnten vorherrschende CMOS-Technologie kann inzwischen nicht mehr alle Funktionalitäten abbilden, welche für moderne systemische Ansätze in den loT-Wachstumsbranchen benötigt werden. Während Anlagensysteme für die Mikrotechnologien vor allem auf die Parameter Durchsatz und Uniformität optimiert waren, steht im Bereich der Nanotechnologien die Materialvielfalt im Vordergrund. Häufig werden Schichtsysteme mit komplexer Stöchiometrie und in Form von größeren Multilagen benötigt, wobei intrinsische Effekte zum Erzielen der gewünschten Funktionalitäten benutzt werden. Das ZfM der TU Chemnitz kann die geforderte Materialvielfalt mit der vorhandenen Anlagentechnik inzwischen nicht mehr ausreichend abbilden. Da dieser Nachteil für den Nanotechnologie-Standort Chemnitz als sehr kritisch eingeschätzt wird, ist die Beschaffung eines Anlagensystems speziell für die Nanotechnologie von großer Wichtigkeit. Damit sollen vor allem eine ausreichend große Anzahl an Targetplätzen für komplexe Multilagen sowie eine Co-SputterFunktionalität zur Erzeugung von Schichten mit multipler Zusammensetzung bereitgestellt werden.