マグネトロン・スパッタリング法によるジルコニア薄膜の組成構造解析
マグネトロン・スパッタリング法によるジルコニア薄膜の組成構造解析
磁控溅射法氧化锆薄膜的成分结构分析
批准号：
63914012
负责人：
中尾 真人
金额：
$0.13万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (B)
财政年份：
1988
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1988 至 --
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