紫外線レーザアブレーションによるカーボンナノチューブ混入PTFE薄膜の試作と評価
紫外線レーザアブレーションによるカーボンナノチューブ混入PTFE薄膜の試作と評価
批准号:
14655116
负责人:
小田 哲治
金额:
$2.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2002
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2002 至 2004
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英文摘要
本研究は、一昨年度より3力年計画で開始された研究である。最終年度にあたる本年度は、これまでに確立された熱分解CVD方によるカーボンナノチューブ(CNT)完成を目指し、昨年度見出した本素アンモニア添加によるアモルファスカーボン除去技術を磨き、高純度多層カーボンナノチューブのみを作成する条件を明らかにすることができた。CNTの応用に関する研究では、安定な微小電極先端部から電子を電界放出させる技術の確立を目指し、真空中での電子電界放出特性を詳細に検討した。その結果、上述のように熱分解CVD法によって作製されたCNTは、かなり良好な電子放出源となりうること、また、成長したCNTを酸素ンガス処理(アニール)、酸化溶液処理(沸酸や硝酸処理)したところ、酸化処理が最も高い電子放出特性を示すことなどが明らかにされた。更に、各種ガス(アルゴン、窒素、水素)環境下20Paの圧力のもとで交流プラズマ処理を行うとその電子放出特性が変化することが見出された。全ての場合、プラズマ処理が長くなると電界放出される電子による電流が増加する傾向があること、特に、水素処理で十分な時間が経過した場合、極めて低い電界強度(1V/μm)で既に2〜3μA/cm^2の電流放出が認められることが明らかとなった。興味深いのは、水素プラズマ処理によって、表面の酵素が増加していることがXPSで認められることである。プラズマ処理後に大気に曝した時に、新鮮な表面に直ちに酸素が結合した可能性が原因と考えられるが、現状では明確ではない。ポリマーとの混合状態での電気的な変化は、これまでの範囲では、混合量が少ないせいか、明確な違いは認められていない。
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R.Ono, T.Oda: "Dynamics and Density Estimation of Hydroxyl Radicals in a Pulsed Corona Discharge"J. Phys. D (Appl. Phys). 35. 2133-2138 (2002)
R.Ono,T.Oda:“脉冲电晕放电中羟基自由基的动力学和密度估计”J。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
小田 哲治 (分担執筆): "プラズマの生成と診断"コロナ社. 452 (2003)
Tetsuji Oda(贡献者):“血浆生成和诊断”Coronasha 452 (2003)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
DOI:
10.1088/0022-3727/37/5/013
发表时间:
2004-03
期刊:
Journal of Physics D
影响因子:
--
作者:
[R. Ono;T. Oda]
通讯作者:
R. Ono;T. Oda
Charge Storage in Corona-charged Polypropylene Films Analyzed by LIPP and TSC Method
用 LIPP 和 TSC 方法分析电晕充电聚丙烯薄膜中的电荷存储
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
IEEE Trans.Ind.Appl. Vol.40,no6
影响因子:
--
作者:
[R.Ono, T.Oda]
通讯作者:
T.Oda
R.Ono, T.Oda: "Visualization of Streamer Channels and Shock Waves Generated by Positive Pulsed Corona Discharge Using Laser Schlieren Method"Jpn.J.Appl.Phys.. Vol.43, No.1. 321-327 (2004)
R.Ono、T.Oda:“使用激光纹影法对正脉冲电晕放电产生的流光通道和冲击波进行可视化”Jpn.J.Appl.Phys. 第 43 卷,第 1 期。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 18 条
超低電圧静電気放電現象の解明
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批准号:19656072
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2007
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负责人:小田 哲治
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依托单位:
微粉炭および石炭燃焼フライアッシュの電気特性の研究
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批准号:57550165
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.22万
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财政年份:1982
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负责人:小田 哲治
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依托单位:
大勾配磁界による水処理に関する基礎的研究(粒子軌跡観測)
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批准号:X00210----375134
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.26万
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财政年份:1978
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负责人:小田 哲治
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依托单位:
海外基金