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光磁気メモリー用アモルファス合金薄膜のミクロ構造解析

磁光存储器用非晶合金薄膜的微观结构分析

基本信息

批准号：
61460195
负责人：
鈴木謙爾
金额：
$ 4.1万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份：
1986
资助国家：
日本
起止时间：
1986 至 1987
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-61460195/
关键词：
薄膜X線回折クラスター・イオン・ビーム堆積薄膜 Fe膜 NiーVアモルファス合金膜ナノ・メーター組織アモルファス合金薄膜 Fe Fe-Tb合金クラスター・イオン・ビーム堆積法磁気的性質ミクロ構造

项目摘要

昭和61年度において,極低入射角X線回折装置の整備およびデータ解析プログラムの開発を行ったので,これを基礎として昭和62年度においては,種々の遷移金属基アモルファス合金薄模試料を作製し,実際に構造解析を試みた. (1)クラスター・イオン・ビーム堆積法によりガラス基板上に作製されるFeーB系アモルファス合金におけるFeーFe相関短範囲構造に極めて類似した構造を有することが確められた. (2)DCースパッター堆積法により作製されたNiー42at%Vアモルファス合金膜中のNiーNi相関短範囲構造のみをパルス中性子全散乱により選択的に測し,NiーNi相関の中距離秩序を調べた. (3)Zr金属ターゲットをAr^+イオンビーム・スパッターして得られるZr気流中にNiクラスターを通過させることにより,NiZrアモルファス合金薄膜により外周がコーティングされたNifcc結晶超微粒子より成るナノ・メーター組織を作ることができた.

Zhaohe 61, extremely low incidence angle X-ray foldback device, equipment, temperature, temperature, The main results are as follows: (1) there is a lot of material on the substrate, such as the Fe Fe phase, the temperature, the temperature, the temperature and the temperature. (2) the measurement of the DC phase in the alloy film, the Ni phase, the Ni phase, the completely scattered neutral phase, the Ni phase and the neutral phase in the alloy film. (2) the Ni phase in the alloy film, the neutral phase in the alloy film, the Ni phase in the alloy film, the neutral phase in the alloy film, the neutral phase in the alloy film. (3) Zr Metallic equipment. (3) in the flow of Zr, the Ni thin film is characterized by scanning electron microscopy (NiZr). The microstructure of the alloy film is characterized by the formation of ultrafine particles in the microstructure.

项目成果

期刊论文数量（14）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

甲斐鎌三,田中尚生,呉国偉,鈴木謙爾: Proc・Inter.Workshop on Ionized Cluster Beam Technique(edited by T.Takagi,京大イオン工学実験施設,June 3-4,1986. 167-170 (1986)

Kamazo Kai、Naoki Tanaka、Guowei Wu、Kenji Suzuki：Proc·Inter.Workshop on Ionized Cluster Beam Technique（由 T.Takagi 编辑，京都大学离子工程实验设施，1986 年 6 月 3-4 日。167-170（1986）