軟磁性高磁歪アモルファス・スパッタ膜の作製と磁気表面弾性波素子に関する基礎的研究
軟磁性高磁歪アモルファス・スパッタ膜の作製と磁気表面弾性波素子に関する基礎的研究
软磁、高磁致伸缩非晶溅射薄膜制备及磁性表面声波器件基础研究
批准号：
X00080----446099
负责人：
藤井 寿崇
金额：
$5.63万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份：
1979
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1979 至 1980
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強磁性・強誘電性薄膜の物性と電子固体素子への応用に関する基礎的研究
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批准号：59550217
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额：$1.09万
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财政年份：1984
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负责人：藤井 寿崇
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依托单位：
Ni-Fe蒸着膜の異方性緩和と内部応力の瞬時測定
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批准号：X46210------5145
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项目类别：Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额：$0.13万
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财政年份：1971
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负责人：藤井 寿崇
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依托单位：