Study of Fast Random Phenomena Using Multi-Frame X-ray Sources with Ultra Intense Laser

超强激光多帧X射线源快速随机现象研究

• 批准号: 18204055
• 负责人: KODAMA Ryosuke
• 金额: $ 30.53万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
• 财政年份: 2006
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2006 至 2009
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18204055/
• 关键词: プラズマ応用; プラズマフォトニックデバイス; 超高強度レーザー; 高エネルギー密度; X線イメージング; シングルポンプアンドマルチプローブ; 超高強度レ-ザ-; 高エネルギ-密度; ランダム過渡現象; シングルポンプアンドマルチ; マイクロパルスパワー; 点X線源; kα-X線

We have developed pulse keV-X-ray sources by utilization of plasma photonic devices to control high energy density electron beams and intense light as well as of ultra-intense lasers. The radiation source was useful to probe high speed phenomena in high density material with a high temporal resolution for a single shot base. This intense pulse radiation sources would be a new toll to probe random transient phenomena.

利用等离子体光子器件，研制出了控制高能量密度电子束、强光和超强激光的脉冲k - x射线源。该辐射源可用于探测高密度材料中的高速现象，且具有高时间分辨率。这种强脉冲辐射源将成为探测随机瞬态现象的新手段。

项目成果

Plasma photonic devices with complex refractive index in EUV region

EUV 区域具有复折射率的等离子体光子器件

• 发表时间: 2010
• 期刊: J. Phys. (Accepted)
• 作者: Y. Inubushi;et. al
• 通讯作者: et. al

Enhanced energy localization and heating in high contrast ultra-intense laser produced plasmas via novel conical micro-target design

通过新颖的锥形微目标设计增强高对比度超强激光产生等离子体的能量定位和加热

• 发表时间: 2008
• 期刊: Journal of Physics: Conference Series 112
• 作者: J Rassuchine;et. al
• 通讯作者: et. al

Study of ultraintense laser propagation in overdense plasmas for fast ignition

超强激光在过密等离子体中传播的快速点火研究

• DOI: 10.1063/1.3101912
• 发表时间: 2008-11
• 期刊: Physics of Plasmas
• 影响因子: 2.2
• 作者: Lei, A. L.;Yabuuchi, T.;Mima, K.;Nagai, K.;Nagatomo, H.;Norimatsu, T.;Sawai, K.;Suzuki, K.;Yu, Wei;Xu, Han;Yang, X. Q.;Tanaka, K. A.;Cao, L. H.;Cai, H. B.;Sentoku, Y.;Pukhov, A.;Kumar, R.;Snavely, R.;Freeman, R.;Yu, Min;Zheng, J.;Kodama, R.;Adumi, K.;Haba
• 通讯作者: Haba

Inhibition of fast electron energy deposition due to preplasma filling of cone-attached targets

• DOI: 10.1063/1.2903054
• 发表时间: 2008-04
• 期刊: Physics of Plasmas
• 影响因子: 2.2
• 作者: S. Baton;M. Koenig;J. Fuchs;A. Benuzzi-Mounaix;P. Guillou;B. Loupias;T. Vinci;L. Gremillet

Heating of solid target in electron refluxing dominated regime with ultra-intense Iaser

用超强激光在电子回流主导状态下加热固体靶

• 发表时间: 2008
• 期刊: Journal of Physics (in press)
• 作者: Koishi;K.・M.;Shiotani;近藤圭一;M. Nakatsutsumi.
• 通讯作者: M. Nakatsutsumi.