軟X線高強度レーザー電場中での共有結合性希ガス分子の形成
軟X線高強度レーザー電場中での共有結合性希ガス分子の形成
软X射线高强度激光电场中共价惰性气体分子的形成
批准号：
24K15609
负责人：
大和田 成起
金额：
$3.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-01 至 2029-03-31
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