パルス法,フロ-法およびビ-ム法によるプラズマ内反応素過程の研究

脉冲法、流动法、束流法研究等离子体基元反应过程

基本信息

批准号：
02214104
负责人：
籏野嘉彦
金额：
$ 11.52万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1988
资助国家：
日本
起止时间：
1988 至 1990
项目状态：
已结题

项目摘要

反応性プラズマの制御を行うためには、プラズマ内反応素過程を明らかにしその素過程の断面積または速度定数、反応生成物についての系統的な研究を行うことが不可欠である。本研究ではこの目的にもっとも適していると考えられるパルス法、フロ-法、ビ-ム法を互いに相補的に用いて、励起希ガス原子からシラン、ジシラン、ゲルマンなどの分子へのエネルギ-移動過程、電子衝突によるこれら分子の励起・解離過程、そして電子付着過程について研究を行うことを目的とした。本年度は最終年度にあるが、実施計画に基づき、昨年度に引き続いてパルス法により励起ヘリウム・アルゴン原子から上記分子へのエネルギ-移動過程の断面積絶対値を励起原子の電子的励起状態を選別して測定するとともに、フロ-法を用い、励起原子だけでなくイオン・ラジカルと上記分子との反応生成物からの発光の分光を行ってこの反応の生成物の種類・状態について明らかにした。また放射光を用いたパルス同時計数測定系を確立しシラン・ジシラン等の分子の光吸収・光イオン化断面積の絶対値の測定を行った。ビ-ム法を用いた実験については、平成元年度までに作製した電子と多原子分子との衝突における励起過程、解離的イオン化過程を明らかにするための低速電子・分子衝突実験装置を用いて上記分子の弾性散乱、電子的・振動的励起、解離、付着の各過程断面積の測定を行い、現象的にもエネルギ-的にもきわめて幅広い範囲にわたりこれらの分子についてのはじめてのデ-タの取得を行うことができた。最後にパルス法による電子付着過程の研究についてはマイクロ波空洞法ならびに平成元年度までに確立したマイクロ波空洞加熱法を用いることにより種々の分子への極低エネルギ-領域における付着速度定数の電子エネルギ-依存性を調べた。以上により本年度の研究計画はそれぞれの手法を相補的に用いることにより遅滞なく、かつ効率的に遂行された。

为了控制反应性等离子体，必须阐明血浆中的反应物过程，并对过程的横截面区域或速率常数进行系统研究以及反应产物。这项研究旨在通过使用互补方法研究从激发贵气体原子到硅烷，迪西兰和德国人等分子的能量转移过程，这些方法被认为是最适合于此目的的，以及电子粘附过程，由于电子碰撞而引起的这些分子的激发和分离的过程，以及电子碰撞引起的电子碰撞过程。 This year is the final year, and based on the implementation plan, following last year, following the pulse method, the absolute cross-sectional area of the energy transfer process from the excited helium/argon atoms to the above molecule was measured by selecting the electronic excited state of the excited atoms, and the flow method was used to spectroscopy of not only the excited atoms but also the reaction product of the ion radical and the above molecule, to clarify the type and state of the product of this 反应。此外，使用同步加速器辐射建立了脉冲数量测量系统，并测量了分子（例如硅烷和二硅烷）的光吸收和光电离横截面面积的绝对值。对于使用光束方法的实验，我们使用弹性散射，电子和振动激发，分离以及分子的附着的横截面面积，使用慢速电子分子碰撞实验装置来阐明激发过程，以阐明激发过程，并在对摩尔群之间的综合产生的互联物之间产生的互联物多部分，并在1989中产生了超级离子化过程。现象和能量的范围。最后，为了使用脉冲方法研究电子粘附过程，我们通过使用微波腔方法和1989年建立的微波腔加热方法研究了极低能量区域中粘附速率常数的电子能量依赖性。结果，今年的研究计划是有效地延迟的，没有使用相应的方法来弥补。