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自由電子密度が光照射強度によって制御可能な有機積層薄膜に関する研究

光照射强度可控制自由电子密度的有机叠层薄膜的研究

基本信息

批准号：
14050056
负责人：
長井圭治
金额：
$ 1.02万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
2002
资助国家：
日本
起止时间：
2002 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

1)有機光起電力発生材料として知られるペリレン/フタロシアニン系の可視近赤外反射特性を調べ、n型半導体ペリレンの自由電子によると考えられる近赤外反射が白色光強度に依存して強くなることを見いだした。また、この積層膜をポリスチレンにコートし、1064nmレーザー光の与えるダメージを抑制した(図右)。しかし、反射を示さない532nmのレーザーに対してはダメージ抑制効果が見られず、反射スペクトルに良く対応した。2)大型レーザー光の立ち上がり部分には530nmの成分も含まれるので、次にn型半導体にはそれよりも高い自由電子密度が期待でき、しかも既にカプセル化が可能となっているポリイミドに、化学ドープをおこなって光反射特性を調べた。この材料のプラズマカットオフ波長はペリレンよりも短く、532nmのレーザー光に対しても反射を示した。この波長に対しても1)で述べた効果が期待できる。3)完全にプラズマ化してもレーザー光の透過するような極めて密度の低いプラスチックフォーム(気体の2倍程度)をマイクロメートル構造で作製することに成功した。4)アルミ箔に有機単分子膜を被覆させることによって、アルミ箔間の分子間力と陰圧で接着させた。この方法で無視できるほどの厚みを接着層をもつ階段状薄膜を作製し、超高強度レーザー照射で生ずる衝撃波を通過させた。接着層の厚みがアルミ箔に比べで無視できるために、衝撃波速度の計測精度誤差が~2%となり、レーザーによる超高圧状態の状態式(Equation of State)計測の精度を高められた。

1)有光起反作用力的生物材料纳米结构已知的光致发光纳米结构/纳米结构纳米结构体系可接近外反射特性纳米结构，n型半导体发光纳米结构自由基纳米结构接近外反射的白色光度依赖纳米结构。1064nm荧光染料与荧光染料的抑制荧光（荧光染料）。荧光粉，反射显示荧光粉532nm荧光粉，荧光粉抑制剂，荧光粉抑制剂，反射荧光粉，荧光粉，荧光粉。2)大型荧光增白剂立上基要求部分含530nm的纳米组分，次晶型半导体荧光增白剂要求高自由基量子点浓度，预期寿命，荧光增白剂奇异果的光化可能性，荧光增白剂的光反射特性，荧光增白剂。该材料的制备方法是将532nm的荧光染料激光束反射显示在荧光显微镜下。潘波文表示，他将继续努力。3)完全无菌化无菌化4）无菌过滤器有无菌分子膜覆盖层，无菌过滤器有无菌分子膜覆盖层，无菌过滤器有无菌分子膜覆盖层，无菌过滤器有无菌分子膜覆盖层，无菌过滤器有无菌分子膜覆盖层。この方法で無視できるほどの厚みを接着層をもつ階段状薄膜を作製し、超高強度レーザー照射で生ずる衝撃波を通過させた。符合超临界流体的临界速度比超临界流体的临界速度快，超声波速度快，超临界精度差约为2%的要求，超临界流体的超临界状态方程式（Equation of State），超临界精度高，超临界流体的超临界状态。