Beschichtungsanlage

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Die beantragte Beschichtungsanlage CC800®/9 HPPMS ermöglicht es erstmalig grundlegendeUntersuchungen zu Hybridprozessen auf der Basis der Beschichtungsprozesse MSIP-PVD(Magnetron Sputter Ion Plating –Physical Vapor Deposition), PACVD (Plasma Activated ChemicalVapor Deposition), AIP-PVD (Arc Ion Plating - PVD) und Plasmanitrieren durchzuführen. Im Rahmender Untersuchungen können damit haftfeste und reibungsmindernden Schichten entwickelt werdenund somit zur Steigerung des Wirkungsgrads von Tribosystemen eingesetzt werden. EineKombination der Prozesse PVD, PACVD und Plasmanitrieren in einem Hybridprozess ist nicht nur austechnischer, sondern auch aus wirtschaftlicher Sicht für die Beschichtung von hoch beanspruchtenBauteilen mit aufwendigen Geometrien die beste Wahl und eröffnet damit neue Forschungsfelder. DieEntwicklung von neuartigen Verschleiß mindernden Schichtsystemen erfordert neuesteProzesstechnologien. Der aktuelle Trend zur Weiterentwicklung der mittelfrequenten Pulstechnologiehin zur HPPMS-Technologie (High Power Pulsed Magnetron Sputtering) wird mit der CC800®/9HPPMS Anlage aufgegriffen. Die CC800®/9 HPPMS Anlage ermöglicht weltweit einzigartig dieKombination der HPPMS Technologie mit den Plasma gestützten PACVD und PVDBeschichtungsprozessen. Diese Anlage erlaubt damit eine Spitzenstellung in der Erforschung vonPlasmaprozessen einzunehmen.