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Oberflächensegregation, Teilchengröße und elektrische Eigenschaften dotierter oxidischer Feinstpulver

Oberflächensegregation, Teilchengröße und elektrische Eigenschaften dotierter oxidischer Feinstpulver
掺杂氧化细粉的表面偏析、粒径和电性能
批准号:
5086208
负责人:
Dr. Günther Behr (†)
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
1998
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1997-12-31 至 2002-12-31

项目摘要

项目成果

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英文摘要
Ziel des Vorhabens ist die Aufklärung von Oberflächensegregation und Volumeneinbau der Dotierungselemente Sb, Nb, In und Mn in SnO2-Feinstpulvern in Abhängigkeit vom Herstellungsverfahren und den Glühbedingungen sowie die Trennung von thermodynamisch und verfahrensbedingt- kinetischen Oberflächensegregationseffekten durch Verfahrensvariation und Vergleich mit der Segregationsausbildung an Einkristallen, wozu die Herausarbeitung des Zusammenhanges zwischen den Darstellungsverfahren, Korngröße, Oberflächensegregation und elektrischen Eigenschaften der Feinstpulver notwendig ist. Außerdem sind die Ergebnisse auf anwendungsorientierte Modellsysteme zu übertragen. Die methodischen Arbeiten bei der XPS konzentrieren sich neben der verbesserten Eichung der Energieskala auf die Optimierung der Präparation der für die Methode relativ kleinen Einkristalle hinsichtlich Spalten und Wärmebehandlung. Desweiteren ist die Ermittlung von Konzentrations-Tiefenprofilverläufen im oberflächennahen Bereich durch experimentelle und rechentechnische Methoden und die Verbesserung unseres Modells zur Beschreibung der Dotierungsverteilung an der Oberfläche und im Pulverkorn vorgesehen.
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