超高真空下における触媒表面ガス吸着
超高真空下における触媒表面ガス吸着
批准号:
X40440----405030
负责人:
戸谷 富之
金额:
$0.14万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Particular Research
财政年份:
1965
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1965 至 --
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
固体表面における分子線の散乱と光の反射
-
批准号:X00090----454088
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.4万
-
财政年份:1979
-
负责人:戸谷 富之
-
依托单位:
金属表面への簡単な原子・分子の吸着状態と吸脱着過程の実験的・理論的研究
-
批准号:X00090----254087
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$0.93万
-
财政年份:1977
-
负责人:戸谷 富之
-
依托单位: