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超高真空下における触媒表面ガス吸着

超高真空下における触媒表面ガス吸着
超高真空下催化剂表面气体吸附
批准号:
X40440----405030
负责人:
戸谷 富之
金额:
$0.14万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Particular Research
财政年份:
1965
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1965 至 --
关键词:

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固体表面における分子線の散乱と光の反射
  • 批准号:
    X00090----454088
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.4万
  • 财政年份:
    1979
  • 负责人:
    戸谷 富之
  • 依托单位:
金属表面への簡単な原子・分子の吸着状態と吸脱着過程の実験的・理論的研究
  • 批准号:
    X00090----254087
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.93万
  • 财政年份:
    1977
  • 负责人:
    戸谷 富之
  • 依托单位: