レーザーアブレーション法によるシリコンナノ微粒子生成プロセスのレーザー分光計測
レーザーアブレーション法によるシリコンナノ微粒子生成プロセスのレーザー分光計測
使用激光烧蚀法对硅纳米粒子生产过程进行激光光谱测量
批准号：
98J07453
负责人：
村本 准一
金额：
$1.73万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
1998
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1998 至 2000
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