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反応中間体ラジカルの電子構造及び反応機構の研究, 特に新らしい重合の反応機構およびその基礎としての一般低分子反応機構の研究

反応中間体ラジカルの電子構造及び反応機構の研究, 特に新らしい重合の反応機構およびその基礎としての一般低分子反応機構の研究
反应中间体自由基的电子结构和反应机理的研究,特别是新型聚合反应机理和一般小分子反应机理的研究作为其基础。
批准号:
X45080------8708
负责人:
森田 利文
金额:
$5.95万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份:
1970
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1970 至 --
关键词:

项目摘要

项目成果

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ジャイアント・パルス・レーザーによる励起一重項状態の偏光吸収スペクトルと励起状態における分子間相互作用の研究
  • 批准号:
    X46090-----84053
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $0.51万
  • 财政年份:
    1971
  • 负责人:
    森田 利文
  • 依托单位: